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研究人员研制4英寸原子级磁控溅射外延设备

原始发布日期：2026-10-19 来源：中国科学院

宁波材料所等研制四英寸原子级磁控溅射外延设备，制备高质量单晶薄膜，推进晶圆级材料制造研究。

科研团队围绕大尺寸过渡金属氮化物外延的瓶颈，开发四英寸原子级磁控溅射系统。借助设备获得AlScN及AlScN/TiN单晶薄膜，衍射测量显示较高晶体质量，为铁电半导体异质结和晶圆级原子制造提供技术支撑。